Исследование влияния одновременно двух геометрических параметров фокусирующей системы на зоны устойчивости электронного пучка - Швачко, А А (Интеллектуальные системы в производстве, 2026)
Стремление к уменьшению габаритных параметров сверхвысокочастотных приборов, вызванное увеличением рабочей частоты и уменьшением массы авиационного оборудования, приводит к необходимости учета возможного отклонения от расчетных параметров элементов прибора. Подобные отклонения параметров могут быть вызваны технологическими особенностями производства, учитывать которые при конструировании становится все более необходимо. Статья посвящена поиску закономерностей влияния геометрических параметров постоянных магнитов на величины, определяющие качество фокусировки электронного потока, с точки зрения возникновения технологических отклонений. В статье анализируется распределение магнитного поля в кольцевых и призматических магнитах с различными параметрами геометрии с использованием численного моделирования для оптимизации условий транспорта интенсивных электронных потоков. В работе представлены графики полей для магнитов различных конфигураций, демонстрирующие переход от неравномерных профилей к гармоничным распределениям. Рассматривается важность учета технологических отклонений в процессе проектирования и изготовления магнитных систем, поскольку даже небольшие изменения геометрических параметров могут существенно повлиять на выходные характеристики устройства. Проведен анализ одновременно влияния ряда геометрических параметров на величины магнитного поля и магнитного коэффициента. В качестве инструмента анализа величины возможных последствий одновременных отклонений двух геометрических параметров предложено использовать трехмерные графики. Для анализируемой системы были найдены оптимальные области значений параметров. Методика позволяет находить неявные оптимальные сочетания параметров магнитов: толщина 25 мм, внутренний диаметр 20 мм, внешний диаметр 33 мм.