[1]
Швачко, А.А. 2026. Исследование влияния одновременно двух геометрических параметров фокусирующей системы на зоны устойчивости электронного пучка. Интеллектуальные системы в производстве. 24, 1 (апр. 2026), 70–77. DOI:https://doi.org/10.22213/2410-9304-2026-1-70-77.